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微弧氧化
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微弧氧化工藝及技術特點

發布日期:2019-12-03 作者: 點擊:

微弧氧化是輕金屬在其特定的電解液及電場條件下,原位生長陶瓷膜的新技術。其原理是將Al、Mg、Ti等輕金屬或其合金置于電解質水溶液中作為陽極,利用電化學方法在該材料的表面產生火花放電斑點,在熱化學、等離子體化學和電化學的共同作用下,獲得金屬氧化物陶瓷層的一種表面改性技術。


微弧氧化處理形成的陶瓷氧化膜,與基體呈冶金結合,膜層致密,具有良好的耐磨、耐蝕性能。 氧化膜的硬度一般能達到600-1500HV(膜層厚度20-50μm),耐磨性能優于硬質陽極化膜及電鍍硬鉻。封孔后耐鹽霧試驗水平可達2000小時以上。該氧化膜還具有良好的絕緣性,耐500V以上的高壓沖擊,且有效防止電偶腐蝕;氧化膜還具有良好的隔熱特性,是鋁合金活塞的首選。


氧化膜表面有很多微孔,多為盲孔,表面組織形貌見圖1,2。該組織形貌,非常有利于后續涂裝,它能使有機涂層深入氧化膜的微孔中形成“拋錨效應”,大大提高了有機涂層的結合力。


微弧氧化處理工藝簡單,流程短。不需要對工件進行復雜的前處理,氧化過程無污染。電解液成分以食品添加劑為主,無毒無害且長效,生產過程中無需更換。清洗廢水可作為電解液補加水,處理過程基本無廢水排放。


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