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微弧氧化的基本原理及膜層特性

發布日期:2019-08-26 作者: 點擊:

微弧氧化技術是一種直接在輕金屬表面原位生長陶瓷膜的新技術。其原理是將Al、Mg、Ti等輕金屬或其合金置于電解質水溶液中作為陽極,利用電化學方法在該材料的表面產生火花放電斑點,在熱化學、等離子體化學和電化學的共同作用下,獲得金屬氧化物陶瓷層的一種表面改性技術

微弧氧化的放電狀態:   

微弧氧化技術特點:

 1)氧化膜具有陶瓷結構特征。 

(2)原位生長。

(3)氧化膜均勻增厚。

(4)無污染:無環保限制元素加入,基本無廢水排放。

           制備工藝簡單。

(5)表面硬度高,顯微硬度在400至1500HV; 

(6)耐磨損性能與硬質合金相當;

(7)耐腐蝕性能:鹽霧試驗鋁合金1000-2000小時 ;鎂

         合金經封孔后耐鹽霧可達1000小時以上。

(8)耐熱性能:300℃水中淬火35次未見變化,1300℃

          沖擊5次不脫落、不龜裂。 

(9)絕緣性能:膜厚不同,表面電阻達  109-12Ω

微弧氧化膜層形貌  截面:微弧氧化陶瓷層與基體以冶金型微熔過渡區連接。

 其組織致密無穿孔,且與基體成明顯的微冶金型結合 。此類組織特征大大增強了陶瓷層對基體的防腐蝕保護能力。

表面: 盲孔微區分布 均勻,利于減摩條件下連續油膜的形成,

改善潤滑條件,降低摩擦系數,延長使用壽命。對用于制取防腐保護涂層的產品,此類表面狀態利于進行封孔或噴粉等后續處理,增強其附著力。  


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