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微弧氧化
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微弧氧化膜層特性有哪些?

發布日期:2019-04-22 作者: 點擊:

微弧氧化是一種在金屬表面原位生長陶瓷層的技術,又稱微弧等離子體氧化或陽極火花沉積,是一種特殊的陽極氧化。是采用了高電壓,大電流的工作方式。以處理過程中樣品表面出現火花現象為基本特征,是伴隨有電化學、熱化學以及等離子化學等多種類型反應同時發生的復雜過程。

  微弧氧化膜層特性

  微弧氧化膜具備了陽極氧化膜和陶瓷噴涂層兩者的優點:

  高耐磨性

  與基體結合力好

  形狀復雜表面上成膜性好

  處理工藝過程無環境污染

微弧氧化與陽極氧化不同,所需溫度范圍較寬。一般為10—90度。溫度越高,成膜越快,但粗糙度也增加。且溫度高,會形成水氣。一般建議在20—60度。由于微弧氧化以熱能形式釋放,所以液體溫度上升較快,微弧氧化過程須配備容量較大的熱交換制冷系統以控制槽液溫度。   


微弧氧化

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