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微弧氧化
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微弧氧化的工藝特點及主要用途

發布日期:2017-09-05 作者: 點擊:

微弧氧化過程中,化學氧化、電化學氧化、等離子體氧化同時存在,因此陶瓷層的形成過程非常復雜,至今還沒有一個合理的模型能全面描述陶瓷層的形成。

微弧氧化工藝將工作區域由普通陽極氧化的法拉第區域引入到高壓放電區域,克服了硬質陽極氧化的缺陷,提高了膜層的綜合性能。微弧氧化膜層與基體結合牢固,結構致密,韌性高,具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性。該技術具有操作簡單和易于實現膜層功能調節的特點,而且工藝不復雜,不造成環境污染,是一項全新的綠色環保型材料表面處理技術,在航空航天、機械、電子、裝飾等領域具有廣闊的應用前景。

一.工藝特點:

1.工藝過程簡單,占地小、處理能力強,生產效率高。

2.工件表面硬度、增強耐磨性能

4.抗腐蝕性能、絕緣性能優良。

5.通過改變工藝參數可得到不同特性的氧化膜層。如致密性、膜層厚度、抗腐蝕性,絕緣性等。

6.通過改變液體成分,可使膜層有特種性能,或得到不同顏色。

7.該工藝可代替陽極氧化,且效果遠遠優于陽極氧化。

二.主要用途:

1、提高輕金屬部件的耐磨性能

2、提高輕金屬部件的耐腐蝕性能

3、提高輕金屬部件的絕緣性能

4、可取代對環境污染的鍍硬鉻工藝

5、可替代電泳、噴涂工藝的前處理,降低成本,減少廢水排放 ,同時提高防腐性能。

6、取代陽極氧化,減少廢水排放,提高耐蝕、耐磨性能。

微弧氧化.jpg

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