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微弧氧化工藝流程

發布日期:2017-05-20 作者: 點擊:

微弧氧化工藝流程

微弧氧化技術是直接在有色金屬表面原位生成陶瓷層的新技術。微弧氧化技術工藝簡單,對環境污染小,具備很大的優越性,它制備的膜層特點鮮明,膜層與基體金屬屬于冶金結合,結合牢固,在制備涂層方面具有明顯優勢,微弧氧化技術已被廣泛應用于altimg等金屬行業,是一種很有前景的表面處理工藝。

 

這種工藝的流程是:

 

1、預處理

 

預處理的原因是由于鋁、鐵等合金長時間放置在空氣中,表面易發生氧化,生成一層幾個微米的鈍化膜,同時,其表面又極易吸附周圍環境中的雜質,形成表面吸附層。為保證微弧氧化后制得陶瓷膜的綜合力學性能,在微弧氧化處理前要對試樣表面進行預處理。

 

2、微弧氧化過程

 

在微弧氧化處理過程中,待氧化試樣與電源正極相連,作為陽極浸入電解液之中,不銹鋼電解槽作為陰極與電源負極相連。在開通電源后,正脈沖電壓快速升高,電流迅速下降,作為陽極的待氧化試樣開始進行陽極氧化,產生大量微小氣泡,同時在試樣表面形成了一層鈍化膜。當外加脈沖電壓超過一定值時,材料表面出現一層極其細微均勻的放電火花,這種微區火花放電現象在試樣表面不同位置出現,在待氧化合金表面原位生長陶瓷膜層,以達到強化材料表面的目的。

 

3、膜層性能檢測儀器

 

膜層的性能檢測包含三部分院厚度表征、硬度表征、形貌表征、相成分表征和表面粗糖度表征等。采用德禍流測厚儀對氧化陶瓷膜的厚度進行檢測;采用利用顯微硬度儀測量膜層表面顯微硬度曰利用環境掃描電子顯微鏡對微弧氧化陶瓷膜的表面、截面形貌以及微觀結構進行觀察。利用x射線衍射儀(x-raydiffiaction,xrd)儀對微弧氧化陶瓷膜進行物相分析;利用精密表面粗糖度儀(jb-4c)測量氧化陶瓷膜的表面粗糙度。

微弧氧化

 


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